化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展
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上海大学材料复合及先进分散技术教育部工程中心,上海 200072

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TB3

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Progress on Boron Nitride Interface Coating Achieved by CVD
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    摘要:

    阐述了BN 界面的优异性能和CVD 制备工艺的优缺点ꎬ主要介绍了CVD-BN 制备过程中沉积温
    度、源气体比例、热处理温度等各因素的影响ꎬ指出CVD 法是制备高品质BN 界面涂层的优选方法ꎮ 优化CVD
    工艺ꎬ对其制备原理进行深入研究ꎬ将是BN 界面涂层研究的重点ꎬ获得特定结构、性能稳定、厚度可控的BN 界
    面相涂层是CVD 法制备BN 界面相涂层的难点。

    Abstract:

    The characteristics of BN and CVD are reviewed. Then the deposition process and the effect of deposi ̄
    tion temperatureꎬ source gases compositionꎬ heat treatment during the preparation by CVD are summarized. The stabili ̄
    zation of process conditions and the reaction mechanism will be the trend for the development of BN coatings. The meth ̄
    od to obtain uniform ꎬ controllable thickness and ordered BN interface coatings will be forced in the future study.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

李琳琳,李爱军,彭雨晴,李照谦,汤哲鹏.化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展[J].宇航材料工艺,2016,46(4).

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  • 在线发布日期: 2016-11-28
  • 出版日期:
第十一届航天复合材料成形与加工工艺技术中心交流会 征文通知

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