Abstract:Ｉｎ ｐｒｅｓｅｎｔ ｓｔｕｄｙꎬ ａ ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｃｏｍｐｒｉｓｅｄ ｏｆ ＶＯ２ ｌａｙｅｒ ｗａｓ ｄｅｓｉｇｎｅｄ ｔｏ ａｃｈｉｅｖｅ ｔｕｎａｂｌｅ ｅｍｉｔ￣
ｔａｎｃｅ ｂａｓｅｄ ｏｎ ｔｈｅ ｐｒｉｎｃｉｐｌｅ ｏｆ ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ｆａｂｒｙ￣Ｐｅｒｏｔ (ＦＰ) ｃａｖｉｔｙ. Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ ｏｆ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ ｏｆ ｄｉｆｆｅｒｅｎｔ ｌａｙｅｒｓ ｃｏｎｓｔｉｔｕ￣
ｔｉｎｇ ｔｈｅ ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ｏｎ ｉｔｓ ｅｍｉｔｔａｎｃｅ ｐｒｏｐｅｒｔｙ ａｎｄ ｔｈｅ ａｎｇｌｅ ｄｅｐｅｎｄｅｎｃｅ ｏｆ ｔｈｅ ｅｍｉｔｔａｎｃｅ ｗｅｒｅ ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄ ｕ￣
ｓｉｎｇ ｔｈｅ ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ ｏｐｔｉｃａｌ ｓｉｍｕｌａｔｉｏｎ ｃｏｍｐｕｔａｔｉｏｎ.Ｉｔ ｉｓ ｆｏｕｎｄ ｔｈａｔ ｔｈｅ ｖａｒｉａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｅｍｉｔｔａｎｃｅ Δε ｉｎｃｒｅａｓｅｄ ｆｉｒｓｔ ａｎｄ
ｔｈｅｎ ｄｅｃｒｅａｓｅｄ ｗｉｔｈ ｔｈｅ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ ｏｆ ＶＯ２ ｉｎｃｒｅａｓｉｎｇ ｆｒｏｍ １５ ｎｍ ｔｏ １２０ ｎｍ ａｎｄ ｔｈｅ Δε ｒｅａｃｈｅｄ ａ ｍａｘｉｍｕｍ ａｔ ５０ ｎｍ
ｏｆ ＶＯ２ ｆｉｌｍ. Ｗｈｉｌｅ ｔｈｅ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ ｏｆ ＨｆＯ２ ｌａｙｅｒ ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｄ ｔｈｅ ｐｏｓｉｔｉｏｎ ｏｆ ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ ｂａｎｄ ｏｆ ｔｈｅ ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ
ａｎｄ ｔｈｅ Δε ｒｅｍａｉｎｅｄ ａｒｏｕｎｄ ｔｈｅ ｍａｘｉｍｕｍ ｏｆ ０.６ ａｔ ｔｈｅ ｗｉｄｅ ｒａｎｇｅ ｏｆ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ ｏｆ ＨｆＯ２ ｆｒｏｍ ８００ ｎｍ ｔｏ １ ０００ ｎｍ.
Ｔｈｅ ｃａｌｃｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ ｅｍｉｔｔａｎｃｅ ｏｆ ｔｈｅ ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ａｔ ｖａｒｉｅｄ ａｎｇｌｅｓ ｉｎｄｉｃａｔｅｓ ｔｈａｔ ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔ Δε ｏｆ ａｂｏｖｅ ０.４
ｃｏｕｌｄ ｂｅ ｒｅｍａｉｎｅｄ ｉｎ ａ ｗｉｄｅ ｒａｎｇｅ ｏｆ ａｎｇｌｅｓ ｆｒｏｍ ０° ｔｏ ７０°.
