基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响
DOI:
作者:
作者单位:

北京航空航天大学,北京,100083%中国工程物理研究院化工材料研究所,绵阳,621900

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:


Influence of Deposition Temperature Upon Electrochromic Property of WO3 Films
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    分别在室温和基片温度低于223 K的条件下,采用直流反应磁控溅射法制备WO3薄膜.对两种条件下制备的薄膜晶体结构、透射光谱特性及电致变色性能进行对比分析.结果表明,低温沉积有利于WO3薄膜非晶化,使得Li+的抽取更加容易,进而显示出良好的变色性能.低温制备的WO3薄膜在可见光400~800 nm范围内着色态和漂白态平均透光率差值达70%以上,在690 nm处的着色系数达到了48.7 cm2/C,具有良好的变色效率.

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

张金伟%刁训刚%王怀义%黄俊%舒远杰.基底沉积温度对WO3薄膜电致变色特性的影响[J].宇航材料工艺,2007,37(5).

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期: 2016-11-28
  • 出版日期:
第十一届航天复合材料成形与加工工艺技术中心交流会 征文通知

关闭